全國(guó)統(tǒng)一學(xué)習(xí)專線 9:00-21:00
首先確定主體。圍繞主體選擇，略去周邊的景物，突出要表現(xiàn)的主體。比如描述河流階地發(fā)育，階地是主體，充分描繪階地的級(jí)數(shù)、高差、寬度，還有階地的切割關(guān)系，從其位置組成、切割關(guān)系上反映階地的結(jié)構(gòu)和成因類型;如果描述冰川的后退，主體選擇冰舌和U形谷，不需要繪制整條冰川，重點(diǎn)應(yīng)該是冰川的終磧物和側(cè)磧物;如果描繪盆地，主體為平原，群山環(huán)境必須表現(xiàn)出來(lái)，為了增加其立體效果，平原上發(fā)育的河流、沖溝也應(yīng)繪出。
第二步是取景構(gòu)圖。將主體放置在畫(huà)面的主要位置，將消失點(diǎn)落到畫(huà)面?zhèn)确交蛘弋?huà)面之外，畫(huà)出主體的多個(gè)側(cè)面，獲得立體感。確定主體位置的方法可以用手指組成一個(gè)長(zhǎng)方形的取景框，或者用較硬的紙剪出一個(gè)取景框。也可以將繪畫(huà)者的觀察位置由平視變?yōu)楦┮?，即將繪畫(huà)者的觀察位置提升到一定高度的空中，加大視傾角，為表現(xiàn)主體留出足夠空間，確定取景的范圍。
然后確定大概的好蔽比例尺，用鉛筆在紙上先勾繪主體的位置和框架，根據(jù)設(shè)定的比例尺確定各主體之間的位置關(guān)系，安排畫(huà)洞簡(jiǎn)面的布局、基本輪廓，畫(huà)出大的幾何形狀。將繪畫(huà)的對(duì)象對(duì)比，確定它們各自的基本范圍，可以將手中鉛筆長(zhǎng)度與目標(biāo)對(duì)比，將要描繪的主體按比例縮小進(jìn)行繪制，勾繪出輪廓線，與照片中的實(shí)際比例基本一致，使繪制的畫(huà)面基本反映野外的實(shí)際，沒(méi)有明顯的變形。
*是對(duì)于素描圖進(jìn)行細(xì)部加工，先畫(huà)近景，然后繪制遠(yuǎn)景，近景線條粗，遠(yuǎn)景線條細(xì)，使得近景清楚而遠(yuǎn)景模糊，產(chǎn)生立體感。在已經(jīng)繪制輪廓線的畫(huà)面中添加典型部位的細(xì)部刻畫(huà)以及陰影，使要表達(dá)的畫(huà)面更真實(shí)。比如繪制山體，山一般包括山脊和沖溝兩個(gè)部分，在勾繪山體的輪廓線后，還要用折線或一條曲線勾出坡角的邊際線，將山體和山前的平原分開(kāi)，形成兩個(gè)不同的面，在勾出山脊的位置上，畫(huà)陰影線，可以突出山脊，在受光處少畫(huà)線條，而在背光處多畫(huà)線條;而不同的山體強(qiáng)調(diào)的部位也不同，陡峻山峰強(qiáng)調(diào)其山脊，渾圓的山梁則要強(qiáng)調(diào)其邊角;不同的巖性采用不同的線條，石灰?guī)r的線條較直較硬，而頁(yè)巖組成的山的線條要較為柔和。通過(guò)細(xì)部加工，將各主體的相對(duì)比例表現(xiàn)出來(lái)，突出畫(huà)面的友顫州立體效果。但是需要注意的是陰影不可大面積使用，以免沖淡主體、喧賓奪主。
地質(zhì)素描是從地質(zhì)觀點(diǎn)出發(fā)，運(yùn)用透視原理和繪畫(huà)技巧來(lái)表達(dá)地質(zhì)現(xiàn)象或地質(zhì)作用的畫(huà)幅。地質(zhì)素描類似于照相，但照相是純直觀的反映，而地質(zhì)素描則可突出地質(zhì)客觀實(shí)體的空間形態(tài)及相互關(guān)系，作者可以有所取舍。照相需要條件，地質(zhì)素描則可隨時(shí)隨地進(jìn)行，一般就在野外記錄本上用鉛筆或鋼筆畫(huà)。往往用許多文字還表達(dá)不清的地質(zhì)現(xiàn)象，而一張素描圖卻表達(dá)得十分清楚，這對(duì)提高工作效率和工作質(zhì)量起著重要作用。因而地質(zhì)工作者應(yīng)當(dāng)學(xué)習(xí)地質(zhì)素描的方法，將其作為地質(zhì)調(diào)查的手段。
3.3.1 地質(zhì)素描的種類
地質(zhì)素描按其內(nèi)容，最常見(jiàn)的有下列幾種類型：
（1）地層素描。素描對(duì)象是地層，表示地層層位關(guān)系、產(chǎn)狀特征、構(gòu)造特征、接觸關(guān)系等，如路線剖面素描圖（信手剖面圖）。
（2）典型地質(zhì)現(xiàn)象素描。在動(dòng)筆素描前，應(yīng)首先觀察典型地質(zhì)現(xiàn)象的“標(biāo)志性形態(tài)特征”，以及如何表達(dá)的素描技法。實(shí)際素描時(shí)，對(duì)“標(biāo)志性形態(tài)特征”可著重描繪，以求將典型地質(zhì)現(xiàn)象充分顯示出來(lái)，如褶皺、斷層中的“標(biāo)志層”；斷層破碎帶中的角礫巖特征、地貌特征；幾組不同方向的節(jié)理的交角大小和各組節(jié)理的寬度大小；各類接觸關(guān)系中的接觸面（帶）的特征等（圖3.23）。
（3）地貌素描。地貌素描是一類視野頗大的素描，從地質(zhì)角度考慮，主要是表現(xiàn)地貌特征與巖石性質(zhì)、地質(zhì)構(gòu)造的關(guān)系，或表現(xiàn)風(fēng)化、水流侵蝕、冰川、火山、地震等地質(zhì)作用與地貌的關(guān)系。
圖3.23 倒轉(zhuǎn)地層
（北京坨里，據(jù)藍(lán)淇鋒等，1979）
3.3.2 地質(zhì)素描的基本方法與步驟
（1）選定素描對(duì)象的范圍，確定景物在畫(huà)框內(nèi)的位置。安排主要對(duì)象和次要對(duì)象的大小比例及其相對(duì)位置關(guān)系，并在圖框內(nèi)勾畫(huà)出范圍（圖3.24）。
圖3.24 素描步驟（1）：確定控制點(diǎn)、基準(zhǔn)線
（李治堂等，2007）
（2）勾畫(huà)大體輪廓線及主要地質(zhì)界線。主要是抓住外形輪廓，如山脊、陡崖、河床、階地、地質(zhì)體界線等。先畫(huà)出大體輪廓，再畫(huà)局部；先畫(huà)主要，再畫(huà)次要；由簡(jiǎn)單到復(fù)雜；先近后遠(yuǎn)，近處畫(huà)得細(xì)致、清晰、濃重，遠(yuǎn)處畫(huà)得粗略胡孝氏、輕淡、隱約。盡量按透視原理來(lái)運(yùn)筆（圖3.25）。
（3）畫(huà)細(xì)部輪廓線和次級(jí)地質(zhì)界線，并添加陰影線。突出地質(zhì)體的形態(tài)特征以及景物形象的立體感，使其逼真如實(shí)。適當(dāng)畫(huà)些背景或襯托物，用以美化畫(huà)面（圖3.26）。
（4）用簡(jiǎn)明扼要的文字表達(dá)畫(huà)面的內(nèi)容，如村莊、地質(zhì)體符號(hào)或其他說(shuō)明等。*寫(xiě)上圖名、地名、方位、測(cè)量褲散數(shù)據(jù)、比例尺及其他必要的說(shuō)明（圖3.27，圖3.28）。慎閉
圖3.25 素描步驟（2）：勾畫(huà)大體輪廓線及主要地質(zhì)界線
（李治堂等，2007）
圖3.26 素描步驟（3）：勾畫(huà)細(xì)部輪廓線和次級(jí)地質(zhì)界線
（李治堂等，2007）
圖3.27 素描步驟（4）：描繪明暗質(zhì)感、整飾全圖
（李治堂等，2007）
圖3.28 侵入接觸關(guān)系素描圖
（贛州市月光塘村，謝文偉繪制）
一、實(shí)訓(xùn)目的
1）學(xué)會(huì)使用MAPGIS繪制鉆孔柱狀圖。
2）熟悉探槽素描圖的繪制。
二、實(shí)訓(xùn)素材
本實(shí)訓(xùn)素材數(shù)據(jù)保存于文件夾“jnsx-18”中。
三、實(shí)訓(xùn)步驟與內(nèi)容
將實(shí)訓(xùn)數(shù)據(jù)復(fù)制、粘貼至各自文件夾內(nèi)。
1）將地質(zhì)實(shí)習(xí)的野外探槽素描圖進(jìn)行數(shù)字化（圖7-1-1，圖7-1-2），操作步驟參見(jiàn)實(shí)訓(xùn)十四信手剖面圖的繪制。
2）利用Section工具系統(tǒng)繪制鉆孔柱狀圖（圖SX18-1）。操作步驟參見(jiàn)學(xué)習(xí)情境六任務(wù)一中的“使用Section繪制柱狀圖”的內(nèi)容。
3）使用MAPGIS，結(jié)合Excel制作鉆孔柱狀圖，原始數(shù)據(jù)見(jiàn)表7-2-1和表7-2-2，操作步驟參見(jiàn)本學(xué)習(xí)情境任務(wù)二的相應(yīng)內(nèi)容。
4）使用MAPGIS繪制鉆孔柱狀圖（圖SX18-1），參考以下操作步驟：
a.建立工作文件夾。在桌面上新建一個(gè)名為“鉆孔柱狀圖”的文件夾，在“鉆孔柱狀圖”文件夾中新建名為“工作目錄”和“臨時(shí)工作目錄”兩個(gè)文件夾。
b.設(shè)置工作環(huán)境。打開(kāi)MAPGIS，在MAPGIS主菜單中選擇左下角的“設(shè)置”，彈出“MAPGIS環(huán)境設(shè)置”對(duì)話框，依次單擊工作目錄→矢量字庫(kù)目錄→系統(tǒng)庫(kù)目錄→系統(tǒng)臨時(shí)目錄進(jìn)行設(shè)置路徑。設(shè)置完成后單擊【確定】按鈕。
c.新建工程。在MAPGIS主菜單中選擇圖形處理→輸入編輯，在彈出的“MAPGIS編輯器”對(duì)話框中選擇【確定】，隨后彈出“設(shè)置工程的地圖參數(shù)”對(duì)話框，選擇【確定】按鈕，在彈出的“定制新建項(xiàng)目?jī)?nèi)容”對(duì)話框中選擇【確定】按鈕。
d.新建點(diǎn)線區(qū)。在工作臺(tái)空白區(qū)域點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵，根據(jù)作圖需要可選擇“新建點(diǎn)”“新建線”“新建區(qū)”，在彈出的“輸入新建項(xiàng)目文件名”中輸入“鉆孔柱狀圖點(diǎn)”“鉆孔柱狀圖線”“鉆孔柱狀圖區(qū)”，選擇【創(chuàng)建】。點(diǎn)的拓展名為“.WT”，線的拓展名為“.WL”，區(qū)的拓展名為“.WP”。
e.制作鉆孔柱狀圖表者讓廳頭及框架的步驟如下：
將“鉆孔柱狀圖點(diǎn)”“鉆孔柱狀圖線”“鉆孔柱狀圖區(qū)”前的方框點(diǎn)上“√”。
執(zhí)行首隱L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線K，出現(xiàn)“點(diǎn)坐標(biāo)輸入”對(duì)話框。在對(duì)話框中依次輸入（X，Y）的坐標(biāo)：（0，0），（310，0），（310，40），（0，40），（0，0）繪制圖頭外框。每輸入一次坐標(biāo)都需要點(diǎn)擊【下一點(diǎn)】，然后再進(jìn)行下一個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)的輸入。在輸入*一個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)后，選擇【完成】按鈕，可完成圖頭外框（圖SX18-2）。
選擇工具欄中的“剪斷線”命令。用鼠標(biāo)選中圖頭外框的左上角，單擊鼠標(biāo)左鍵，進(jìn)行剪斷（圖SX18-3）。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制A，選擇圖框左邊框（圖SX18-4），彈出“陣列拷貝”對(duì)話框，將“陣列行數(shù)”改為“0”“陣列列數(shù)”改為“32”“行間間距”改為“0”“列間間距”改為“10”（圖SX18-5），選擇【OK】命令，完成后如圖SX18-6所示。
執(zhí)行工具欄中的“刪除線”命令，將第7，8，12～20，27～31條線刪除（圖SX18-7）。
執(zhí)行L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線K，輸入坐標(biāo)（200，30），（310，30），點(diǎn)擊【完成】，執(zhí)行L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線K，輸入坐標(biāo)（210，20），（240，20），點(diǎn)擊【完成】（圖SX18-8）。
執(zhí)行T其他→自動(dòng)剪斷線U命令，再執(zhí)行工具欄中的“刪除線”命令，將多余的線刪掉（圖SX18-9）。
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)單元命令，彈出“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框，將“注釋高度”和“注釋寬度”都改成“4”，排列為“橫排”，單擊【確定】按鈕，在圖頭相應(yīng)位置輸入相應(yīng)橫排文字（圖SX18-10）。
圖SX18-1 鉆孔柱狀圖
圖SX18-2 圖頭外框
圖SX18-3 圖頭外框的左上角剪斷線
圖SX18-4 圖框左邊框
圖SX18-5 陣列拷貝
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)單元命令，將排列改為“豎排”，單擊【確定】按鈕，在圖頭相應(yīng)位置輸入相應(yīng)豎排文字（圖SX18-11）。
圖SX18-6 陣列拷貝結(jié)果
圖SX18-7 刪除多余的線結(jié)果
圖SX18-8 輸入橫線
圖SX18-9 刪除多余線的結(jié)果
圖SX18-10 輸入相應(yīng)橫排文字
圖SX18-11 輸入相應(yīng)豎排文字
執(zhí)行工具欄中的“修改點(diǎn)參數(shù)”命令，選擇圖頭“黃金礦區(qū)ZK520 鉆孔柱狀圖”，彈出“點(diǎn)參數(shù)”對(duì)話框，將“注釋高度”“注釋寬度”“注釋間隔”都改為“10”，單擊【確定】。
執(zhí)行工具欄中“移動(dòng)點(diǎn)”命令，將圖頭及圖頭內(nèi)文字移動(dòng)到適當(dāng)位置（圖SX18-12）。
圖SX18-12 圖頭及圖頭滑鏈內(nèi)文字移動(dòng)到適當(dāng)位置
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→對(duì)齊坐標(biāo)U命令，選擇圖頭內(nèi)相應(yīng)文字，彈出“點(diǎn)對(duì)齊信息”對(duì)話框，選擇“水平方向?qū)R”，單擊【OK】，完成后如圖SX18-13所示。
圖SX18-13 完成圖頭相應(yīng)文字對(duì)齊
運(yùn)用相同的方法，對(duì)圖頭中需要的文字進(jìn)行“對(duì)齊坐標(biāo)”進(jìn)行垂直對(duì)齊。
執(zhí)行工具欄中“修改點(diǎn)參數(shù)”命令，選擇“地層時(shí)代”“換層深度”，彈出“操作信息”對(duì)話框，單擊【是】，彈出“注釋參數(shù)”對(duì)話框，調(diào)整“注釋間隔”（圖SX18-14），單擊【確定】，完成后如圖SX18-15所示。對(duì)剩下的文字修改“注釋間隔”，達(dá)到美觀的效果。
圖SX18-14 調(diào)整注釋間隔
圖SX18-15 完成調(diào)整注釋間隔
執(zhí)行【工具欄】中“拷貝點(diǎn)”，將圖中的“（米）”，“（%）”，“1∶100”拷貝到相應(yīng)位置。
通過(guò)執(zhí)行上述命令，完成“圖頭”的制作（圖SX18-16）。
圖SX18-16 完成圖頭
6）制作鉆孔柱狀圖外框及輸入鉆孔柱狀圖內(nèi)數(shù)據(jù)。
執(zhí)行L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線K。根據(jù)表SX18-1 中數(shù)據(jù)，輸入坐標(biāo)（0，0），（0，-200），畫(huà)出一條豎直的線（圖SX18-17）。
表SX18-1 鉆孔數(shù)據(jù)記錄表
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制，陣列復(fù)制所畫(huà)的直線，“陣列拷貝”框內(nèi)信息如圖SX18-18所示，繪制結(jié)果如圖SX18-19所示。
圖SX18-17 畫(huà)一豎線
圖SX18-18 設(shè)置陣列拷貝參數(shù)
執(zhí)行工具欄中“刪除線”，將不需要的線刪除（圖SX18-20）。
圖SX18-19 陣列復(fù)制結(jié)果
圖SX18-20 刪除多余線
執(zhí)行L線編輯→聯(lián)接線，將如圖SX18-21所示線段進(jìn)行聯(lián)接。
圖SX18-21 將所示線段進(jìn)行聯(lián)接
對(duì)聯(lián)接好的線段執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制，［陣列拷貝］信息如圖SX18-22 所示（“行間間距”為“換層深度”*10），對(duì)所聯(lián)接的線進(jìn)行陣列復(fù)制，完成后如圖SX18-23所示。
圖SX18-22 陣列拷貝
圖SX18-23 陣列復(fù)制結(jié)果
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)單元，在“輸入點(diǎn)單元”對(duì)話框中，“輸入類型”選擇“注釋”“注釋高度”“注釋寬度”改為“4”，排列方式為“橫排”，在圖中相應(yīng)位置點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵，彈出“注釋編輯”對(duì)話框，輸入相應(yīng)文字（如5.55），執(zhí)行工具欄中“拷貝點(diǎn)”命令，將所輸入文字拷貝到相應(yīng)位置（圖SX18-24），執(zhí)行N點(diǎn)編輯→對(duì)齊坐標(biāo)，選擇所拷貝的一列文字，在彈出的“點(diǎn)對(duì)齊信息”對(duì)話框中選擇“垂直方向左對(duì)齊”，單擊【OK】。
執(zhí)行命令N點(diǎn)編輯→陣列復(fù)制點(diǎn)，將所對(duì)齊的一列文字進(jìn)行陣列復(fù)制。在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中“陣列行數(shù)”改為“0”，“陣列列數(shù)”改為“9”，“行間間距”改為“0”，“列間間距”改為“10”，單擊【OK】（圖SX18-25）。
圖SX18-24 輸入文字
圖SX18-25 對(duì)齊坐標(biāo)
執(zhí)行工具欄中“刪除點(diǎn)”命令，將多余的點(diǎn)進(jìn)行刪除，刪除后如圖SX18-26所示。
圖SX18-26 刪除多余的點(diǎn)
執(zhí)行工具欄中“修改文本”命令，選擇修改后的文字，彈出“注釋修改”對(duì)話框，根據(jù)表格內(nèi)數(shù)據(jù)，對(duì)柱狀圖內(nèi)的文字進(jìn)行修改，修改完后如圖SX18-27所示。
圖SX18-27 修改文本
執(zhí)行L 線編輯→陣列復(fù)制命令，選擇“巖心描述”做邊框線，彈出“陣列拷貝”對(duì)話框，將對(duì)話框內(nèi)數(shù)據(jù)進(jìn)行如圖SX18-28 的設(shè)置，單擊【OK】后如圖SX18-29所示。
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)單元，在彈出的“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中“輸入類型”選擇“版面”。在巖心描述空白處反復(fù)點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵，彈出“排版編輯窗”對(duì)話框，在“排版編輯窗”內(nèi)輸入少量文字。
執(zhí)行工具欄中“修改點(diǎn)參數(shù)”，選擇剛才輸入的“版面”，彈出“點(diǎn)參數(shù)”對(duì)話框，將“點(diǎn)參數(shù)”中的內(nèi)容做如圖SX18-30 的修改，修改完成后如圖SX18-31所示。
執(zhí)行工具欄中的“拷貝點(diǎn)”命令，將所輸入的“版面”，根據(jù)需要進(jìn)行復(fù)制到相應(yīng)的位置（圖SX18-32）。
執(zhí)行工具欄中“修改文本”，選擇所輸入“版面”，彈出“排版編輯窗”，對(duì)所有的版面內(nèi)容進(jìn)行修改，修改完成后執(zhí)行工具欄中“移動(dòng)點(diǎn)”命令，將“版面”移動(dòng)到合理的位置，修改完成后如圖SX18-33所示。
圖SX18-28 陣列拷貝參數(shù)
圖SX18-29 陣列拷貝結(jié)果
圖SX18-30 修改點(diǎn)參數(shù)
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→對(duì)齊坐標(biāo)U命令，選擇所有“版面”，彈出“點(diǎn)對(duì)齊信息”對(duì)話框，選擇“垂直方向左對(duì)齊”，單擊【OK】。
執(zhí)行L線編輯→輸入線→輸入線E命令，彈出“造線信息”對(duì)話框，單擊【確定】。
在每個(gè)版面的間隔部分畫(huà)一條橫線（圖SX18-34）。
執(zhí)行L線編輯→復(fù)制線命令，將所畫(huà)線段進(jìn)行復(fù)制（圖SX18-35）。
執(zhí)行 L 線編輯→延長(zhǎng)縮短線→靠近線命令，先選擇所要被靠近的線段，如圖SX18-36右側(cè)綠色線段，在選擇需要執(zhí)行靠近命令的線段，如圖SX18-36 中鼠標(biāo)大十字光標(biāo)所在的線段。將線段兩端分別靠近左右兩端的線段，完成后如圖SX18-37所示。
圖SX18-31 修改點(diǎn)參數(shù)結(jié)果
圖SX18-32 拷貝點(diǎn)
執(zhí)行L線編輯→聯(lián)接線命令，將巖心描述左邊的線段與巖心描述中的相應(yīng)線段進(jìn)行聯(lián)接，每聯(lián)接一條線，需單擊鼠標(biāo)右鍵后，才能進(jìn)行下兩條線段的聯(lián)接，聯(lián)接后如圖SX18-38所示。
執(zhí)行工具欄中的“刪除線”命令，將“巖心描述”中之前所陣列復(fù)制的線進(jìn)行刪除，如圖SX18-39所示線段，刪除后如圖SX18-40所示。
執(zhí)行L線編輯→聯(lián)接線命令，將“采樣情況”中的線段進(jìn)行聯(lián)接（圖SX18-41）。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制命令，根據(jù)表SX18-1所示數(shù)據(jù)，對(duì)所聯(lián)接的線進(jìn)行陣列復(fù)制（圖SX18-42），陣列復(fù)制后如圖SX18-43所示。
圖SX18-33 修改文本
圖SX18-34 在版面的間隔畫(huà)一條橫線
圖SX18-35 復(fù)制線
圖SX18-36 靠近線
圖SX18-37 靠近線結(jié)果
圖SX18-38 聯(lián)接線
圖SX18-39 刪除線
圖SX18-40 刪除線結(jié)果
表SX18-2 數(shù)據(jù)
圖SX18-41 聯(lián)接線
圖SX18-42 陣列復(fù)制
圖SX18-43 陣列復(fù)制結(jié)果
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)單元命令，彈出“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框，在對(duì)話框內(nèi)進(jìn)行如圖SX18-44的設(shè)置，單擊【確定】。
在圖中相應(yīng)位置輸入“H1”，然后執(zhí)行工具欄中的“復(fù)制點(diǎn)”，將其復(fù)制到相應(yīng)位置（圖SX18-45）。
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→對(duì)齊坐標(biāo)，選擇所復(fù)制的點(diǎn)，在“點(diǎn)信息對(duì)齊”對(duì)話框中選擇“垂直方向左對(duì)齊”命令，單擊【OK】。
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→陣列復(fù)制點(diǎn)A命令，選擇對(duì)齊坐標(biāo)后的點(diǎn)，在“陣列拷貝”對(duì)話框中，進(jìn)行如圖SX18-46的設(shè)置，拷貝完成后如圖SX18-47所示。
執(zhí)行工具欄中的“修改文本”命令。選擇所需要修改的所有文字，根據(jù)已選定的文字在“注釋修改”中依次進(jìn)行修改，修改完后，執(zhí)行工具欄中“移動(dòng)點(diǎn)”命令，將文字移動(dòng)至適當(dāng)?shù)奈恢谩?/p>
7）制作圖例及責(zé)任框。
執(zhí)行N 點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)圖元命令。在彈出的“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中進(jìn)行如圖SX18-48的設(shè)置后，單擊【確定】。在圖中適當(dāng)位置點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵，在彈出的“注釋編輯”對(duì)話框中輸入“圖例”，單擊【OK】，完成后如圖SX18-49所示。
圖SX18-44 輸入點(diǎn)圖形參數(shù)設(shè)置
圖SX18-45 復(fù)制點(diǎn)
執(zhí)行L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線 K，在“坐標(biāo)輸入”對(duì)話框中進(jìn)行如圖SX18-50～圖SX18-54 的操作，*一點(diǎn)需先選擇【下一點(diǎn)】，再選擇【完成】按鈕，完成后如圖SX18-55 所示。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制線命令，選擇所畫(huà)圖例框，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中進(jìn)行如圖SX18-56的操作，完成后如圖SX18-57所示。
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)圖元，在彈出的“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中，進(jìn)行如圖SX18-58的操作，單擊【確定】。
在圖中相應(yīng)位置單擊鼠標(biāo)左鍵，在彈出的“注釋編輯”對(duì)話框中輸入相應(yīng)的文字。如“灰?guī)r”單擊【OK】。執(zhí)行N點(diǎn)編輯→陣列復(fù)制點(diǎn)命令。選擇所輸入的文字，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中，進(jìn)行如圖SX18-59的操作，單擊【OK】，完成后如圖SX18-60所示。
圖SX18-46 “陣列拷貝”對(duì)話框
圖SX18-47 修改調(diào)整文本
圖SX18-48 【輸入點(diǎn)圖形】對(duì)話框圖
圖SX18-49 注釋編輯后結(jié)果
圖SX18-50 坐標(biāo)輸入-1
圖SX18-51 坐標(biāo)輸入-2
圖SX18-52 坐標(biāo)輸入-3
圖SX18-53 坐標(biāo)輸入-4
圖SX18-54 坐標(biāo)輸入-5
圖SX18-55 坐標(biāo)輸入結(jié)果
圖SX18-56 陣列拷貝參數(shù)
圖SX18-57 陣列拷貝結(jié)果
圖SX18-58 【輸入點(diǎn)圖形】對(duì)話框
圖SX18-59 【陣列拷貝】對(duì)話框
圖SX18-60 陣列拷貝后結(jié)果
圖SX18-61 巖心描述修改后結(jié)果
執(zhí)行工具欄中的“修改文本”命令，根據(jù)“巖心描述”中的巖性對(duì)所陣列復(fù)制的文字進(jìn)行修改，修改后如圖SX18-61所示。
執(zhí)行L線編輯→輸入線→鍵盤(pán)輸入線命令，在彈出的“坐標(biāo)輸入”對(duì)話框中依次輸入X，Y的值為（0，0）、（50，0）、（50，50）、（0，50），（0，0），接著先選擇【下一點(diǎn)】命令后再選擇【完成命令】，完成后繪制出一個(gè)50*50 的方框，如圖SX18-62所示。
圖SX18-62 完成后結(jié)果
執(zhí)行L線編輯→移動(dòng)線B→移動(dòng)線命令，如圖SX18-63所示，選擇所繪制的方框，移動(dòng)至如圖SX18-64所示位置。
圖SX18-63 移動(dòng)線
圖SX18-64 移動(dòng)線位置
執(zhí)行工具欄中“剪斷線”命令（圖SX18-65，圖SX18-66），將所移動(dòng)的方框左上角與右上角進(jìn)行剪斷操作。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制A命令，選擇方框上面的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中，輸入陣列行數(shù)5，列數(shù)1，行間距-10，列間距0，點(diǎn)擊【OK】。選擇方框左邊的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中，輸入陣列行數(shù)0，列數(shù)2，行間距0，列間距30，點(diǎn)擊【OK】。
圖SX18-65 剪斷方框左上角的線
圖SX18-66 剪斷方框右上角的線
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)圖元命令，將對(duì)應(yīng)的文字輸入至責(zé)任框內(nèi)，通過(guò)“移動(dòng)點(diǎn)”“修改點(diǎn)參數(shù)”等命令將所輸入文字進(jìn)行調(diào)整，調(diào)整至如圖SX18-67所示。
執(zhí)行工具欄中的“剪斷線”命令，將灰?guī)r的圖例框進(jìn)行剪斷（圖SX18-68）。
圖SX18-67 在責(zé)任框中輸入文字
圖SX18-68 剪斷圖例框的線
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制命令，選擇圖例框上面的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中，進(jìn)行如圖SX18-69所示的操作。
執(zhí)行工具欄中“剪斷線”命令，將圖例框左邊的線段進(jìn)行如圖SX18-70剪斷。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制A命令，選擇圖例框左邊所剪斷的線，進(jìn)行如圖SX18-71所示操作，完成后如圖SX18-72所示。
執(zhí)行工具欄中的“刪除線”命令，根據(jù)灰?guī)r的圖例，將多余的線進(jìn)行刪除命令，完成后如圖SX18-73所示。
圖SX18-69 陣列復(fù)制參數(shù)
圖SX18-70 剪斷圖例框左邊的線段
圖SX18-71 陣列拷貝參數(shù)
圖SX18-72 陣列復(fù)制圖例線段結(jié)果
圖SX18-73 刪除多余的線完成“灰?guī)r”圖例
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)圖元I命令，在彈出的“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中“輸入類型”選擇“子圖”，單擊“子圖號(hào)”，在彈出的“選擇子圖”對(duì)話框中，找到需要的子圖，單擊【確定】，在“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中，對(duì)“子圖高度”、“子圖寬度”進(jìn)行如圖SX18-74的調(diào)整，單擊【確定】。若子圖過(guò)大或過(guò)小，執(zhí)行工具欄中“修改點(diǎn)參數(shù)”命令，在彈出的“點(diǎn)參數(shù)”對(duì)話框中，對(duì)“子圖高度”、“子圖寬度”進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整（圖SX18-75）。
圖SX18-74 輸入點(diǎn)圖形參數(shù)
圖SX18-75 修改點(diǎn)參數(shù)
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→陣列復(fù)制點(diǎn)A命令，選擇所繪制的子圖，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中，設(shè)置陣列行數(shù)0，列數(shù)4，行間距0，列間距5。單擊【OK】后如圖SX18-76所示。
執(zhí)行工具欄中“拷貝點(diǎn)”命令，對(duì)所陣列復(fù)制的子圖進(jìn)行統(tǒng)一的復(fù)制，復(fù)制至如圖SX18-77所示。
執(zhí)行工具欄中的“刪除點(diǎn)”命令，將圖中多余的點(diǎn)進(jìn)行刪除命令，完成后如圖SX18-78所示。
圖SX18-76 陣列復(fù)制一行點(diǎn)
圖SX18-77 陣列復(fù)制的子圖
圖SX18-78 刪除多余的子圖
根據(jù)上述步驟，結(jié)合各巖性圖例，完成剩下的圖例（圖SX18-79）所示。
8）制作表中柱狀圖欄的巖性花紋。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制A命令，選擇柱狀圖左邊的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)1，列數(shù)2，行間距0，列間距5。單擊【OK】后如圖SX18-80所示。
圖SX18-79 完成的圖例
圖SX18-80 陣列復(fù)制柱狀圖左邊的線段
選擇所陣列復(fù)制的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)1，列數(shù)2，行間距0，列間距20，單擊【OK】。
執(zhí)行L線編輯→復(fù)制線G命令，選擇圖例中灰?guī)r的圖例（圖SX18-81），將圖例復(fù)制到柱狀圖相應(yīng)位置（圖SX18-82）。
圖SX18-81 灰?guī)r圖例
執(zhí)行L 線編輯→陣列復(fù)制命令，選擇所復(fù)制的圖例，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)6，列數(shù)2，行間距-6.66，列間距0，單擊【OK】，完成后如圖SX18-83所示。
根據(jù)上述方法，將柱狀圖中的其他圖例進(jìn)行補(bǔ)充完整，如圖SX18-84所示。
9）圖形造區(qū)。
執(zhí)行工具欄中的“剪斷線”命令，將所礦化部分的柱狀圖外框進(jìn)行剪斷操作（圖SX18-85，圖SX18-86）。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制A命令，選擇所剪斷的線段，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)0，列數(shù)2，行間距0，列間距3，單擊【OK】，完成后如圖SX18-87所示。
圖SX18-82 圖例復(fù)制到柱狀圖相應(yīng)位置
圖SX18-83 陣列復(fù)制灰?guī)r圖例
圖SX18-84 陣列復(fù)制其他的圖例
執(zhí)行工具欄中的“剪斷線”命令。將如圖SX18-88所示線段上下進(jìn)行剪斷。
執(zhí)行L線編輯→陣列復(fù)制命令，選擇所剪斷的最上面的小線段，在彈出的【陣列拷貝】對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)3，列數(shù)1，行間距-10，列間距0，單擊【OK】，完成后如圖SX18-89所示。
執(zhí)行T其他→自動(dòng)剪斷線U命令，執(zhí)行R區(qū)編輯→區(qū)編輯…R→圖形造區(qū)命令，選擇如圖SX18-90 所示的小方塊，單擊鼠標(biāo)右鍵，在彈出的“區(qū)參數(shù)”對(duì)話框中（圖SX18-91）。單擊“區(qū)參數(shù)”中的“填充顏色”命令，在彈出的“選擇顏色”對(duì)話框中選擇“黑色”，單擊【確定】，根據(jù)上述方法，將剩下的小方框進(jìn)行圖形造區(qū)，繪制成黑白相間的區(qū)（圖SX18-92）。
圖SX18-85 剪斷礦化部分的柱狀圖外框—1
圖SX18-86 剪斷礦化部分的柱狀圖外框—2
圖SX18-87 陣列復(fù)制線
圖SX18-88 剪斷上下線段
圖SX18-89 陣列拷貝后的結(jié)果
圖SX18-90 小方塊
圖SX18-91 【區(qū)參數(shù)】對(duì)話框
圖SX18-92 圖形造區(qū)結(jié)果
執(zhí)行R區(qū)編輯→區(qū)編輯…R→陣列復(fù)制區(qū)P命令，選擇所造出的黑白相間的區(qū)，在彈出的“陣列拷貝”對(duì)話框中設(shè)置陣列行數(shù)0，列數(shù)2，行間距0，列間距10，單擊【OK】，完成后如圖SX18-93所示。
圖SX18-93 陣列復(fù)制區(qū)
圖SX18-94 刪除區(qū)
執(zhí)行R區(qū)編輯→區(qū)編輯…R→刪除區(qū)F命令，刪除后如圖SX18-94所示。
執(zhí)行工具欄中的“刪除線”命令，將之前所繪制的線段進(jìn)行刪除，完成后如圖SX18-95所示。
執(zhí)行工具欄中的“修改文本”命令，將圖例中一個(gè)多余的圖例進(jìn)行修改，繪制成如圖SX18-96所示。
執(zhí)行L線編輯→輸入線→輸入線E命令，在采樣位置圖例框中，繪制如圖SX18-97的圖形，并執(zhí)行T其他→自動(dòng)剪斷線命令。
圖SX18-95 刪除線
圖SX18-96 修改多余的圖例
執(zhí)行R區(qū)編輯→區(qū)編輯…R→圖形造區(qū)命令，將采樣位置中的線段進(jìn)行圖形造區(qū)，繪制成如圖SX18-98所示。
圖SX18-97 采樣位置圖例框繪制圖形
圖SX18-98 圖形造區(qū)
執(zhí)行N點(diǎn)編輯→輸入點(diǎn)圖元I命令，在彈出的“輸入點(diǎn)圖形”對(duì)話框中進(jìn)行如圖SX18-99所示的設(shè)置，單擊【確定】。在圖中相應(yīng)位置單擊鼠標(biāo)左鍵，在彈出的“注釋編輯”對(duì)話框中輸入“H1”，并通過(guò)工具欄中的“修改點(diǎn)參數(shù)”，“移動(dòng)點(diǎn)”命令，繪制成如圖SX18-101所示。
執(zhí)行工具欄中的“拷貝點(diǎn)”命令，將“采樣位置”中的“H1”復(fù)制到柱狀圖中如圖SX18-101所示位置。
執(zhí)行工具欄中的“修改文本”命令，將圖中的采樣位置進(jìn)行修改。
10）工程輸出。
執(zhí)行“工程輸出”命令。
執(zhí)行F文件→頁(yè)面設(shè)置命令，在彈出的“工程輸出編輯”對(duì)話框中的“頁(yè)面設(shè)置”中選擇“系統(tǒng)自動(dòng)檢測(cè)幅面”命令，單擊【確定】。
執(zhí)行R光柵輸出→生成JPEG圖像命令，在彈出的“設(shè)置輸出位圖的分辨率”對(duì)話框（分辨率為300）中單擊【確定】。
圖SX18-99 【輸入點(diǎn)圖形】對(duì)話框設(shè)置參數(shù)
圖SX18-100 輸入移動(dòng)H1 點(diǎn)
圖SX18-101 “H1”復(fù)制到柱狀圖中
執(zhí)行“C返回編輯”命令，關(guān)閉MAPGIS，彈出“MAPGIS編輯系統(tǒng)”對(duì)話框，選擇【是】。在彈出的“MAPGIS”對(duì)話框中，進(jìn)行點(diǎn)線區(qū)的保存，選擇【是】。在彈出的保存界面中，選擇自己的目錄，修改文件名進(jìn)行保存。
四、提交實(shí)訓(xùn)成果
提交電子作業(yè)和打印紙質(zhì)作業(yè)，刪除工作目錄下帶擴(kuò)展名“～”的文件，將所有文件打包為.rar格式提交到教師計(jì)算機(jī)。
五、思考與討論
討論交流實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面圖的方法和技巧。
只要一個(gè)電話
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